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真空等離子清洗設(shè)備的參數(shù)配置及應(yīng)用
2020.05.13
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真空等離子清洗設(shè)備采用低壓激發(fā)等離子體作為清洗介質(zhì),有效避免了液體清洗介質(zhì)對被清洗物體的二次污染。真空等離子清洗設(shè)備配有機(jī)械真空泵,可通過真空泵將等離子體反應(yīng)后的污染物抽出,同時保持腔體的真空度。因此,有機(jī)污染物可以通過短時間清洗徹底清除。
  除了清潔功能,真空等離子清洗設(shè)備還可以根據(jù)特定條件下的要求改變某些材料的表面性質(zhì)。在清洗過程中,真空等離子清洗設(shè)備的輝光放電可以增強(qiáng)這些材料的附著力、相容性和潤濕性。適用于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)。13.56兆赫射頻電源可以用來匹配各種常見氣體的等離子體。
 
  真空等離子清洗設(shè)備可以蝕刻材料的表面。等離子體中的大量離子、激發(fā)分子、自由基等活性粒子作用于固體樣品表面,不僅在表面產(chǎn)生原有的污染物和雜質(zhì),還會產(chǎn)生刻蝕效應(yīng),使樣品表面粗糙化,形成許多微坑,增加樣品的比表面積。固體表面的潤濕性得到改善。
 
  真空等離子清洗設(shè)備可去除金屬表面的油脂、油污等有機(jī)物和氧化層,也可用于汽車制造過程中的塑料和油漆預(yù)處理。該真空等離子清洗設(shè)備可用于紡織品、過濾網(wǎng)和薄膜的親水性、疏水性和表面改性處理,還可用于提高生物醫(yī)用培養(yǎng)皿的活性,潤濕血管支架、注射器、導(dǎo)管和各種材料,以及交叉涂層預(yù)處理。真空等離子清洗設(shè)備可用于絕緣材料、電子元件等的表面涂層預(yù)處理,也可用于清洗和蝕刻電路板。對薄膜、聚丙烯和其他材料進(jìn)行非氧化和活化處理,以提高可焊性。
 
  真空等離子清洗設(shè)備可以深入到物體的小孔和凹槽中以完成清潔任務(wù),因此不需要過多考慮待清潔物體的形狀。此外,對這些難以清洗的零件的清洗效果與氟利昂相似,甚至更好。等離子清洗的真空度控制在100帕左右,容易達(dá)到。因此,該裝置的設(shè)備成本不高,并且清潔過程不需要使用昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本低于傳統(tǒng)的濕法清潔過程。
 
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